近幾年，受國際大環(huán)境所影響，“半導體”已然是全球范圍內(nèi)最受關注的行業(yè)之一。

而一談起半導體，光刻機永遠是繞不過去的熱門話題，因為光刻機是半導體制造的核心設備之一，其在半導體制造過程中處于非常關鍵的位置。

【資料圖】

因此，很多人將光刻機譽為“半導體工業(yè)皇冠上的明珠”。

目前的光刻機市場，呈現(xiàn)出”一超雙強“之勢，ASML、尼康、佳能幾乎占據(jù)了所有份額。

其中，ASML 無疑是實力最強，且最被大眾所熟知的光刻機設備制造商。

早在 2018 年，ASML 在高端市場占據(jù)的份額就高達 90%，在 10nm 節(jié)點以下，更是穩(wěn)穩(wěn)占據(jù) 100% 的市場。

在半導體工藝進入 7nm 制程的節(jié)點后，唯有 ASML 能制造出極紫外（EUV）這一先進水準的光刻機。

此前，ASML 的 CEO 兼總裁彼得?維尼克曾透露過下一代極紫外光刻機的消息，將在 2024 年開始出貨。

他表示，就長期而言，計劃每年生產(chǎn) 20 臺。

從 ASML 官網(wǎng)公布的信息來看，下一代極紫外光刻機將命名為 EXE 系列，數(shù)值孔徑將由 0.33 增至 0.55，用于 2nm 及以下的制程工藝。

不過，考慮到出貨后，后續(xù)還需要進行安裝和測試，因此真正投入到生產(chǎn)中，最早也要在 2025 年。

換言之，在 2025 年，半導體大概率將進入到 2nm 時代。

同樣，由于眾所周知的原因，光刻機以及 ASML 也是無數(shù)國內(nèi)網(wǎng)友關注的焦點。

受限于高端制程的設備、技術不足，國內(nèi)半導體行業(yè)在過去幾年間處于被“卡脖子”的狀態(tài)。

既買不到先進的 EUV 光刻機，又無法制造自主設計出來的先進制程芯片，所以，許多人都希望能早日實現(xiàn)突破。

而這般迫切的心態(tài)，ASML 自然一清二楚，時常會對國內(nèi)的光刻機發(fā)展評頭論足。

比如在幾天前，據(jù)日經(jīng)亞洲報道，ASML 執(zhí)行副總裁兼商務總監(jiān)克里斯托弗?福凱表示，全球半導體供應鏈當中，任何單一國家想要與別人脫鉤，建立完全自力更生的芯片產(chǎn)業(yè)，如果不是不可能的話，也會極為困難與昂貴。

他認為，ASML 不相信脫鉤具有可能性，這樣做將極度困難、極度昂貴，并強調(diào)，人們遲早要明白，半導體行業(yè)制勝法寶唯有合作。

他還向媒體坦言，躲回一個幽暗角落，全部自己做的想法，是極具挑戰(zhàn)的。

雖說克里斯托弗的措辭是“單一國家”，但說的是誰，不言而喻。

為了驗證自己的說法，他還用佳能和尼康的情況舉例。

起初，尼康和佳能研發(fā)光刻機的進度要領先于 ASML，但后來，隨著發(fā)展到需要更多零部件整合的高端光刻機時，他們卻掉隊了。

因為，日本企業(yè)向來青睞內(nèi)部整合創(chuàng)新，可是受工業(yè)體系不完整等原因所限，難以支撐。

反觀 ASML 則海納百川，除了掌握少許核心技術，大部分零部件均依靠數(shù)千家外部供應商。

從這個角度來看，克里斯托弗的言論確實是經(jīng)驗之談，且具備一定的信服力。

實際上，在更早之前，ASML 就公開看衰過國內(nèi)光刻機的發(fā)展前景。

去年 1 月，ASML 首席執(zhí)行官彼得?溫寧克放話，稱中國不太可能獨立復制頂級光刻技術，因為 ASML 依賴于“不懈的創(chuàng)新”。

他說：“我不是說不能，因為我知道物理定律在中國和這里是一樣的，永遠不要說永遠，他們一定會嘗試的?！?/p>

后來，他透露 ASML 一直對中國的技術保持關注，但是中國光刻機技術的快速發(fā)展并沒有讓他感到震驚，覺得缺乏自主創(chuàng)新能力。

甚至還說，中國自研的光刻機破壞了全球芯片產(chǎn)業(yè)鏈。

從這些言論中不難看出，他很矛盾，一邊覺得獨立研發(fā)光刻機沒戲，一邊又擔心拿出成果。

站在 ASML 的立場，他們肯定不希望看到獨立自主的突破，因為一旦國產(chǎn)高端光刻機推出，注定會極大影響其收益。

雖然買不到最先進的光刻機，但中國大陸是 ASML 第三大市場，僅次于中國臺灣和韓國。

2021 年，約 22 億美元（約合人民幣 158 億元）或 16% 的 ASML 銷售額來自中國大陸。

并且，倘若建立起全自主芯片產(chǎn)業(yè)鏈，有機會實現(xiàn)全面自產(chǎn)自銷。

國內(nèi)的廠商或許就不必再購買芯片，芯片廠商也不必再找海外公司生產(chǎn)。

如此一來，便會引起一連串連鎖反應，ASML 鐵定會受到?jīng)_擊。

但是，站在咱們的立場，自力更生研發(fā)光刻機是必走之路。

現(xiàn)階段，誰也不清楚國產(chǎn)光刻機發(fā)展到了怎樣的程度，別看網(wǎng)絡上的消息層出不窮，但大多都不靠譜。

畢竟，光刻機可是人類智慧的結晶，需要一步一個腳印推進。

雖然過程注定漫長，會存在各種意想不到的困難，但必須去面對、解決，世上無難事，只要肯登攀。

總之，道路是曲折的，前途是光明的，時間會給出答案。

就像網(wǎng)友所說的這樣：“從兩彈一星到核潛艇，從盾構機到大飛機，同樣的話我們一路這樣聽過來的。”

國產(chǎn)高端光刻機，我們在等待。

關鍵詞：